德国弗劳恩霍夫应用研究促进协会北京代表处
Fraunhofer IOF研究所:抗反射涂层
AR-plas2®宽频抗反射涂层

涂有AR-plas2®的光学器件SEM 图像

 

位于耶拿的 Fraunhofer IOF 开发的AR-plas2®技术具有从紫外线到近红外的低反射率。最外层的有效折射率精确到1.1,可以保证在斜光入射时具有优异的光学性能。该涂层具有抗湿和抗热性。 

该专利工艺适用于聚合物和玻璃透镜,以及微光学部件、窗户和显示器。该技术非常适用于大规模生产。


用于相机镜头的宽带 AR-VIS

玻璃和聚合物上的高光谱 AR

先进的等离子体APS被用来支持聚合物上的气相沉积

我们提供:

  • 优化设计和工艺
  • 样品涂层和小规模专业生产
  • 技术转移和生产许可

透明和传导层的低温沉积

APS 高级等离子体

 

目的

透明导电氧化物(TCOs)的可应用范围从红外反射器、抗静电涂层到透明电极。对轻质和不易碎的塑料(如聚碳酸酯或Zeonex)使用的稳步增加,促进了低温涂层工艺的开发。

无涂层基底、单一 ITO 层和带ITO的宽带AR系统(R<20Ω/ )的透射光谱

低温工艺

通过等离子体辅助蒸发(Plasma IAD)和溅射工艺,可以在低于 100℃的温度下在塑料基材上沉积高度透明和导电的氧化铟锡(ITO)或掺铝的氧化锌(AZO)层。

Zenonex基片,半涂有ITO-AR系统(片状电阻低于20Ω/ )

特征

在所使用的制造工艺帮助下,可以在4μΩm 范围内实现特定电阻层,从而使薄层的表面电阻低于 10Ω/□ 。由于吸收率低,在可见光谱范围内的平均消光系数低于7*10-3,因此可以生产出高透明层和层状系统。气候稳定性、耐磨性和低表面粗糙度使其能够在反射镜和反射镜光学中实现多种应用。

塑料光学器件的抗反射涂层


硬质防锈涂层 AR-hard®

通过等离子体IAD沉积的AR-hard®涂层因其结构而特别适用于塑料光学器件。干涉涂层系统通常由薄的高折射层和厚的低折射层组成。可以设计以下典型属性: 

  • 抗反射涂层的色彩中性
  • 定义的光谱范围
  • 可变的耐刮性
  • 气候抗御能力,例如: PMMA 上为-40°C至+60°C,PC上为-40°C至+85°C
  • 附加功能(易清洗,防紫外线) 

AR-hard®涂层适用于 PMMA(专利工艺)、聚碳酸酯、Zeonex、聚酰胺、CR39 和其他塑料。

抗反射的纳米结构 AR-plas®

 

抗反射结构可以通过聚合物的直接等离子体蚀刻来创造。AR-plas®专利工艺中的结构形成是以自组织的方式进行的(PMMA、CR39),或在涂了一个薄的起始层后(如使用 Zeonex)。其特点是具有即使在大入射角下仍然有效的宽频彩色中性抗反射效果。因此,该工艺非常适用于弧形镜片和预结构表面(菲涅尔透镜)的抗反射涂层。到目前为止,在PMMA、Zeonex、Ultrason、PET和CR39 上已经实现了出色的抗反射性能。然而,使用纳米结构的抗反射涂层通常只建议用于不暴露在机械应力下的表面。


带有 AR-hard®涂层的PMMA


聚碳酸酯 Makrolon,具有AR-hard®抗反射涂层和额外的紫外线保护功能


带有AR-plas®结构和30nmSiO2 保护层的ZeonexE48R


带有AR结构的PMMA AR-plas®